| dc.contributor.advisor | 馮震宇 | zh_TW |
| dc.contributor.advisor | Fong,Jerry G. | en_US |
| dc.contributor.author (Authors) | 許雅芬 | zh_TW |
| dc.contributor.author (Authors) | Hsu, Ya-Fen | en_US |
| dc.creator (作者) | 許雅芬 | zh_TW |
| dc.creator (作者) | Hsu, Ya-Fen | en_US |
| dc.date (日期) | 2003 | en_US |
| dc.date.accessioned | 24-Apr-2010 15:55:12 (UTC+8) | - |
| dc.date.available | 24-Apr-2010 15:55:12 (UTC+8) | - |
| dc.date.issued (上傳時間) | 24-Apr-2010 15:55:12 (UTC+8) | - |
| dc.identifier (Other Identifiers) | G0090651048 | en_US |
| dc.identifier.uri (URI) | http://nccur.lib.nccu.edu.tw/handle/140.119/38983 | - |
| dc.description (描述) | 碩士 | zh_TW |
| dc.description (描述) | 國立政治大學 | zh_TW |
| dc.description (描述) | 法律學系碩士班學士後法學組 | zh_TW |
| dc.description (描述) | 90651048 | zh_TW |
| dc.description (描述) | 92 | zh_TW |
| dc.description.abstract (摘要) | 自一九九九年投入大型TFT LCD之生產以來，台灣的TFT LCD產業急速成長為全球僅次於南韓的重要生產地。隨著產業聚落的形成，更引發零組件市場就地取材的驅勢。台灣控制IC廠商挾其研發經驗與半導體產業在產能上的支援下，甫一投入控制市場便造成主要大廠Genesis的嚴重威脅。為迫使台灣廠商安於已無利潤可言之低階產品市場，Genesis針對台灣之晶磊、晶捷、創品以及晨星等四家廠商提起一連串的專利訴訟行動，除於聯邦地院提出民事之侵權告訴，復於美國國際貿易委員會連續提出兩件侵權控訴。 臺灣被告廠商因連續訴訟而疲於奔命，除在業務上因此侵權疑慮而大幅滑落之外，亦有因支付龐大之律師費用而延誤研發投入時程，使其領先地位互易者。究其涉訟之主要原因有二，其一為對專利法制之認識不足，就專利屬地性之限制以及侵權救濟程序之發動要件之認識有所欠缺；其二則為專利部署情形欠佳，不論在數量以及所屬國上均不足以保障其研發成果於他國實施之正當性。 因在TFT LCD產業的下游產品中，美國仍為最重要的市場地，為使業者能避免再蹈覆轍，本文除就控制產業之競爭環境做基本說明外，即以美國之專利法制為主要介紹目標。內容包括專利之申請、維護以及救濟程序之因應策略。希望能有助於相關業者於專利規畫以及侵權爭議因應方式上之考量。 | zh_TW |
| dc.description.abstract (摘要) | "第一章 緒論 第一節 研究動機與目的 第二節 研究進行方式 第一項 台灣TFT LCD Monitor控制IC 業者發展優勢之分析 第二項 與控制IC有關之專利訴訟案例之搜集與整理 第三項 美國專利制度與申請實務之介紹 第四項 美國專利保護範圍與侵權救濟 第五項 USITC案件之收集與分 第三節 論文結構 第二章 控制IC之產業環境分析 - 第一節 前言 第二節 TFT LCD 產業概論 第一項 TFT-LCD產業概況 一 TFT LCD於平面顯示器產業中之定位 二 應用產品 三 發展簡史 四 主要供應國之全球市佔率概況 第二項 TFT-LCD之結構及顯像原理 一 LCD之分類 二 TFT-LCD之結構 三 TFT-LCD顯像原理 四 TFT-LCD產品製程 第三項 TFT-LCD關鍵零組件之產業現況 一 玻璃基板 二 彩色濾光片 三 偏光板 四 驅動IC 五 背光板 第四項 台灣TFT-LCD產業概況 第三節 LCD 監視器控制IC產業分析 第一項 監視器結構與控制IC之功能 一 LCD監視器結構 二 控制IC之種類與功能 三 控制IC之技術發展趨勢 第二項 控制IC產業概況 一 市場規模 二 市場佔有率概況 三 主要領導廠商及其技術優勢領域 四 國內投入廠商 第四節 台灣廠商之競爭優勢 第一項 政策面 一 半導體產業： 二 影像顯示產業 第二項 產業面 一 TFT-LCD之群聚效應帶動控制IC就地取材之趨勢 二 半導體產業在產能上的支持 第四節 小結 第三章 控制IC專利爭訟案例介紹 第一節 前言 第二節 SILICON IMAGE V. GENESIS MICROCHIP 第一項 聯邦地方法院部份 一 事實基礎 二 系爭專利背景 三 訴訟簡史 四 判決 第二項 國際貿易委員會部份 一 聲請之提出與調查之決定 二 系爭專利之說明 三 DDWG授權許可免費實施之範圍 四 侵權產品與侵權行為 五 SII之聲請內容 六 ITC處理進度 第三節 GENESIS V. 台灣控制IC廠商 第一項 聯邦地院部份：Genesis v. MRT., SmartAsic., and Trumpion 第二項 國際貿易委員會：Genesis v. MRT, and Trumpion 一 第一階段之調查與答辯 二 第二階段之調查與答辯 三 爭點分析 四 ITC處理進度 第三項 國際貿易委員會：Genesis v. MRT, Trumpion and MStar 一 調查案聲請內容 二 系爭專利之說明 三 被告之侵權產品與侵權行為 第四節 小結 第一項 案例資料之彙整 第二項 DDWG之技術授權 第三項 台灣被告廠商之專利資料與因應策略 第四章 技術保護與專利申請策略 第一節 前言 第二節 發明專利概說 第一項 專利保護標的 第二項 專利要件 一 實用性 二 新穎性 三 非顯而易見性 四 說明書撰寫內容之要求 第三項 專利期間 第四項 專利權之權能與權利之行使 一 專利權之權能 二 權利之移轉與授權 第五項 專利標示 二 標示之方式 第三節 專利申請程序 第一項 專利申請人 一 單獨創作 二 職務創作 三 共同發明 第二項 專利申請案之種類與階段 一 暫時申請案 二 正式申請案(Original Application) 三 分割申請案(Divisional application) 四 接續申請案(continuation application) 五 部份接續申請案(continuation in part) 六 原案重行審查(Request for Continued Examination) 第三項 專利說明書之撰寫方式 一 製程製品法(product-by process claims) 二 「吉普森」法(Jepson Claims) 三 「馬爾喀什族群」法(Markush Group Claims) 四 「手段－功能」法(means-plus-function claims) 第四項 專利申請文件 一 暫時申請案 二 正式申請案 第五項 專利申請案件之公開 一 一般原則 二 不予公開之例外 三 公開之遲延 四 提早公開之聲請 五 公開費用之繳納 六 公開方式 第六項 專利申請案之審查與答辯 一 專利申請期 二 專利審查員之審查 三 專利申請人之答辯 四 干擾程序 五 審定結果之上訴 第六項 繳費與專利之核發 第四節 外國專利之申請 第一項 國外專利之申請許可 第二項 外國專利之申請方式 一 巴黎公約之申請方式 二 專利合作條約之申請方式 三 歐洲專利組織之申請方式 第五節 小結：技術保護與專利申請策略 第一項 特定技術保護方式之決定 第二項 技術內容之公開 一 技術發明之法定登記制度(SIR) 二 技術公報上之技術公開 第三項 專利申請策略 一 可專利性之檢索 二 發明文件之寄存程序 三 專利核駁之答辯 四 請求範圍之異動 五 最終核駁之因應 第五章 專利之維護與管理策略 第一節 前言 第二節 專利有效性之維護與監控 第三節 專利瑕疵之補正 第一項 勘誤證明(Certificate of Correction) 一 專利局本身作業疏失所致之錯誤 二 專利申請人之錯誤 第二項 Statutory Disclaimer 第四節 權利範圍之異動 第一項 專利再核發 一 申請主體與參加人 二 申請要件 三 可請求之範圍 四 申請期限與程序之中止 五 再核發之異議 六 再核發專利之核發 七 再核發專利之效力 第二項 專利複審程序 一 Ex Parte 複審程序 二 Inter Parte 複審程序 三 複審程序之特色 第五節 小結：專利之維護與管理策略 第一項 專利有效性之維護 一 清查所有專利及法律狀態 二 專利之分類 第二項 專利請求範圍之維護 一 專利權人應適用程序 二 第三者應適用程序 第六章 侵權之判定與抗辯策略 第一節 前言 第二節 專利保護範圍之建構 第一項 以請求項所載界限為其範圍 第二項 外部證據與內部證據之參酌 第三節 侵權之判定 第一項 文義侵權之判定 第二項 實質侵權之判定 一 均等論之起源與目的 二 具體檢驗方法 三 以均等論擴張權利範圍之限制 第四節 侵權之樣態 第一項 直接侵權 第二項 誘引侵權 第三項 輔助侵權 第五節 侵權救濟種類 第一項 禁制令(Injunctive relief)： 第二項 請求金錢給付 第三項 禁止侵權物之進口 第六節 侵權之抗辯 第一項 專利無效之抗辯 一 以先前技藝為不具專利性之抗辯 二 以喪失專利申請權限為不具專利性之抗辯 三 專利說明書之重大暇疵所致之不可專利性 第二項 不侵權抗辯 一 專利技術特徵之欠缺 二 權利耗盡原則 三 實驗性使用(Experimental use) 四 授權契約之阻卻違法 第三項 專利不可實施 一 違反申請義務所致之專利不可實施 二 違反競爭法之規定與權利濫用 第四項 權利懈怠與禁反言之限制 一 權利懈怠 二 禁反言 第七節 小結：侵權抗辯策略 第一項 抗辯事由之選擇 第二項 抗辯方式之選擇 第七章 民事訴訟程序之因應策略 第一節 前言 第二節 專利訴訟管轄法院 第一項 美國法院組織 第二項 聯邦法院之管轄範圍 第三節 專利訴訟程序 第一項 管轄法院之選擇及訴案之提起 一 被告所在地 二 合意管轄 三 侵權行為地 第二項 審判前之證據開示程序 一 證據開示程序之目的 二 證據開示程序之揭露義務與揭露範圍 三 法定方式之進行程序 四 證據開示程序中之資訊保護與強制開示 第三項 馬克曼聽證會 一 源起 二「馬克曼聽證會」之召開時間 三 實益與爭論 第四項 開庭審判階段 一 陪審團制度 二 陪審團的選拔 三 審判進行程序 第五項 初審結果之上訴 第四節 小結：民事救濟程序之因應策略 第一項 提起訴訟或應訴之考量 第二項 訴訟前之準備 一 爭議解決之可能方式 二 警告函之處理與侵權之判定 三 訴訟之評估 四 和解之考量 第二項 訴訟應對策略 一 被告之答辯 二 管轄法院之選擇 三 聲請暫時禁止令 四 妥善規劃證據開示程序 五 審判進行方式之決定 六 初審結果之上訴 第八章 USITC調查程序之因應策略 第一節 前言 第二節 編制與職責 第一項 主要任務與具體工作內容 一 貿易法之執行 二 國際貿易研究 三 調節性關稅之監看與調整 第二項 調查單位之編制 一 委員會 二 「行政法官室」(Office of Administrative Law Judge, ALJ), 三 「不公平進口調查室」(Office of Unfair Import Investigations 第三節 關稅法三三七條之管轄範籌與調查進行程序 第一項 管轄範圍 一 對物管轄 二 對人管轄 第二項 申請調查之主體與要件 一 聲請主體與要件 第四節 制裁種類 第一項 侵權物之禁止進口 一 「排除令」( Exclusion Order) 二 「暫時排除令」(Preliminary relief ) 第二項 侵權物之扣押與沒入 - 192 - 第三項 「禁制令」(Cease & Desist Order) 一 一般禁制令 二 暫時禁制令(Temporary restraining orders) 三 違反禁制令之效果 四 簽發禁制令之限制 第五節 進行程序 第一項 調查之決定與最終裁定日期之決定 第二項 調查案之通知與被告之答辯 第三項 即決裁決 第四項 證據調查 一 證據調查程序之一般規定 二 法定程序之進行規定 三 強制開示與保護令之聲請 第五項 聽證會 第六項 初步裁決之審核 一 初步裁決之發布 二 初步裁決之審核 第七項 最後裁定之政策性審核與執行 第八項 最終裁定之上訴 第六節 三三七案件之特色 第一項 調查及最終決定過程快速 第二項 立即且強大之救濟效力 第三項 救濟之限制 第四項 三三七案件之當事人通常亦同為民事程序之當事人 第五項 所需支出之訴訟費用 第七節 ITC重要案例與調查現況 第一項 例年來與台灣廠商有關之重要調查案件 第二項 進行中與台灣廠商有關之調查案件 第八節 小結：USITC調查程序之因應策略 第一項 以USITC之貿易制裁作為競爭策略 第二項 侵權調查之因應策略 一 訴訟代理人之選擇 二 應訴策略 三 和解考量 四 聲請民事程序之中止 第九章 結論與建議 第一節 結論 第一項 控制IC之市場現況 第二項 控制IC產業所面臨之之專利挑戰 第二節 專利因應策略之建議 第一項 事前預防策略 一 技術來源之考量 二 特定技術之保護方式 三 技術內容之公開 四 專利申請策略 五 專利法律狀態之維護與管理 第二項 事後防禦策略 一 侵權抗辯事由與選擇 二 抗辯事由之與應注意事項 三 民事訴訟應對策略 四 USITC調查程序之因應策略 第三項 結語 附錄一 DDWG授權合約 附錄二 SILICON IMAGE 5,905,769號美國專利首頁 附錄三 SILICON IMAGE 5,974,464號美國專利首頁 附錄四 GENESIS之5,739,867號美國專利首頁 附錄五 GENESIS之5,953,074號美國專利首頁 附錄六 GENESIS之6,078,361號美國專利首頁 附錄七 USPTO資料查詢介面 附錄八 PCT 資料檢索介面 附錄九 USITC調查資料檢索介 " | - |
| dc.description.tableofcontents | 第一章 緒論 第一節 研究動機與目的 第二節 研究進行方式 第一項 台灣TFT LCD Monitor控制IC 業者發展優勢之分析 第二項 與控制IC有關之專利訴訟案例之搜集與整理 第三項 美國專利制度與申請實務之介紹 第四項 美國專利保護範圍與侵權救濟 第五項 USITC案件之收集與分 第三節 論文結構 第二章 控制IC之產業環境分析 - 第一節 前言 第二節 TFT LCD 產業概論 第一項 TFT-LCD產業概況 一 TFT LCD於平面顯示器產業中之定位 二 應用產品 三 發展簡史 四 主要供應國之全球市佔率概況 第二項 TFT-LCD之結構及顯像原理 一 LCD之分類 二 TFT-LCD之結構 三 TFT-LCD顯像原理 四 TFT-LCD產品製程 第三項 TFT-LCD關鍵零組件之產業現況 一 玻璃基板 二 彩色濾光片 三 偏光板 四 驅動IC 五 背光板 第四項 台灣TFT-LCD產業概況 第三節 LCD 監視器控制IC產業分析 第一項 監視器結構與控制IC之功能 一 LCD監視器結構 二 控制IC之種類與功能 三 控制IC之技術發展趨勢 第二項 控制IC產業概況 一 市場規模 二 市場佔有率概況 三 主要領導廠商及其技術優勢領域 四 國內投入廠商 第四節 台灣廠商之競爭優勢 第一項 政策面 一 半導體產業： 二 影像顯示產業 第二項 產業面 一 TFT-LCD之群聚效應帶動控制IC就地取材之趨勢 二 半導體產業在產能上的支持 第四節 小結 第三章 控制IC專利爭訟案例介紹 第一節 前言 第二節 SILICON IMAGE V. GENESIS MICROCHIP 第一項 聯邦地方法院部份 一 事實基礎 二 系爭專利背景 三 訴訟簡史 四 判決 第二項 國際貿易委員會部份 一 聲請之提出與調查之決定 二 系爭專利之說明 三 DDWG授權許可免費實施之範圍 四 侵權產品與侵權行為 五 SII之聲請內容 六 ITC處理進度 第三節 GENESIS V. 台灣控制IC廠商 第一項 聯邦地院部份：Genesis v. MRT., SmartAsic., and Trumpion 第二項 國際貿易委員會：Genesis v. MRT, and Trumpion 一 第一階段之調查與答辯 二 第二階段之調查與答辯 三 爭點分析 四 ITC處理進度 第三項 國際貿易委員會：Genesis v. MRT, Trumpion and MStar 一 調查案聲請內容 二 系爭專利之說明 三 被告之侵權產品與侵權行為 第四節 小結 第一項 案例資料之彙整 第二項 DDWG之技術授權 第三項 台灣被告廠商之專利資料與因應策略 第四章 技術保護與專利申請策略 第一節 前言 第二節 發明專利概說 第一項 專利保護標的 第二項 專利要件 一 實用性 二 新穎性 三 非顯而易見性 四 說明書撰寫內容之要求 第三項 專利期間 第四項 專利權之權能與權利之行使 一 專利權之權能 二 權利之移轉與授權 第五項 專利標示 二 標示之方式 第三節 專利申請程序 第一項 專利申請人 一 單獨創作 二 職務創作 三 共同發明 第二項 專利申請案之種類與階段 一 暫時申請案 二 正式申請案(Original Application) 三 分割申請案(Divisional application) 四 接續申請案(continuation application) 五 部份接續申請案(continuation in part) 六 原案重行審查(Request for Continued Examination) 第三項 專利說明書之撰寫方式 一 製程製品法(product-by process claims) 二 「吉普森」法(Jepson Claims) 三 「馬爾喀什族群」法(Markush Group Claims) 四 「手段－功能」法(means-plus-function claims) 第四項 專利申請文件 一 暫時申請案 二 正式申請案 第五項 專利申請案件之公開 一 一般原則 二 不予公開之例外 三 公開之遲延 四 提早公開之聲請 五 公開費用之繳納 六 公開方式 第六項 專利申請案之審查與答辯 一 專利申請期 二 專利審查員之審查 三 專利申請人之答辯 四 干擾程序 五 審定結果之上訴 第六項 繳費與專利之核發 第四節 外國專利之申請 第一項 國外專利之申請許可 第二項 外國專利之申請方式 一 巴黎公約之申請方式 二 專利合作條約之申請方式 三 歐洲專利組織之申請方式 第五節 小結：技術保護與專利申請策略 第一項 特定技術保護方式之決定 第二項 技術內容之公開 一 技術發明之法定登記制度(SIR) 二 技術公報上之技術公開 第三項 專利申請策略 一 可專利性之檢索 二 發明文件之寄存程序 三 專利核駁之答辯 四 請求範圍之異動 五 最終核駁之因應 第五章 專利之維護與管理策略 第一節 前言 第二節 專利有效性之維護與監控 第三節 專利瑕疵之補正 第一項 勘誤證明(Certificate of Correction) 一 專利局本身作業疏失所致之錯誤 二 專利申請人之錯誤 第二項 Statutory Disclaimer 第四節 權利範圍之異動 第一項 專利再核發 一 申請主體與參加人 二 申請要件 三 可請求之範圍 四 申請期限與程序之中止 五 再核發之異議 六 再核發專利之核發 七 再核發專利之效力 第二項 專利複審程序 一 Ex Parte 複審程序 二 Inter Parte 複審程序 三 複審程序之特色 第五節 小結：專利之維護與管理策略 第一項 專利有效性之維護 一 清查所有專利及法律狀態 二 專利之分類 第二項 專利請求範圍之維護 一 專利權人應適用程序 二 第三者應適用程序 第六章 侵權之判定與抗辯策略 第一節 前言 第二節 專利保護範圍之建構 第一項 以請求項所載界限為其範圍 第二項 外部證據與內部證據之參酌 第三節 侵權之判定 第一項 文義侵權之判定 第二項 實質侵權之判定 一 均等論之起源與目的 二 具體檢驗方法 三 以均等論擴張權利範圍之限制 第四節 侵權之樣態 第一項 直接侵權 第二項 誘引侵權 第三項 輔助侵權 第五節 侵權救濟種類 第一項 禁制令(Injunctive relief)： 第二項 請求金錢給付 第三項 禁止侵權物之進口 第六節 侵權之抗辯 第一項 專利無效之抗辯 一 以先前技藝為不具專利性之抗辯 二 以喪失專利申請權限為不具專利性之抗辯 三 專利說明書之重大暇疵所致之不可專利性 第二項 不侵權抗辯 一 專利技術特徵之欠缺 二 權利耗盡原則 三 實驗性使用(Experimental use) 四 授權契約之阻卻違法 第三項 專利不可實施 一 違反申請義務所致之專利不可實施 二 違反競爭法之規定與權利濫用 第四項 權利懈怠與禁反言之限制 一 權利懈怠 二 禁反言 第七節 小結：侵權抗辯策略 第一項 抗辯事由之選擇 第二項 抗辯方式之選擇 第七章 民事訴訟程序之因應策略 第一節 前言 第二節 專利訴訟管轄法院 第一項 美國法院組織 第二項 聯邦法院之管轄範圍 第三節 專利訴訟程序 第一項 管轄法院之選擇及訴案之提起 一 被告所在地 二 合意管轄 三 侵權行為地 第二項 審判前之證據開示程序 一 證據開示程序之目的 二 證據開示程序之揭露義務與揭露範圍 三 法定方式之進行程序 四 證據開示程序中之資訊保護與強制開示 第三項 馬克曼聽證會 一 源起 二「馬克曼聽證會」之召開時間 三 實益與爭論 第四項 開庭審判階段 一 陪審團制度 二 陪審團的選拔 三 審判進行程序 第五項 初審結果之上訴 第四節 小結：民事救濟程序之因應策略 第一項 提起訴訟或應訴之考量 第二項 訴訟前之準備 一 爭議解決之可能方式 二 警告函之處理與侵權之判定 三 訴訟之評估 四 和解之考量 第二項 訴訟應對策略 一 被告之答辯 二 管轄法院之選擇 三 聲請暫時禁止令 四 妥善規劃證據開示程序 五 審判進行方式之決定 六 初審結果之上訴 第八章 USITC調查程序之因應策略 第一節 前言 第二節 編制與職責 第一項 主要任務與具體工作內容 一 貿易法之執行 二 國際貿易研究 三 調節性關稅之監看與調整 第二項 調查單位之編制 一 委員會 二 「行政法官室」(Office of Administrative Law Judge, ALJ), 三 「不公平進口調查室」(Office of Unfair Import Investigations 第三節 關稅法三三七條之管轄範籌與調查進行程序 第一項 管轄範圍 一 對物管轄 二 對人管轄 第二項 申請調查之主體與要件 一 聲請主體與要件 第四節 制裁種類 第一項 侵權物之禁止進口 一 「排除令」( Exclusion Order) 二 「暫時排除令」(Preliminary relief ) 第二項 侵權物之扣押與沒入 - 192 - 第三項 「禁制令」(Cease & Desist Order) 一 一般禁制令 二 暫時禁制令(Temporary restraining orders) 三 違反禁制令之效果 四 簽發禁制令之限制 第五節 進行程序 第一項 調查之決定與最終裁定日期之決定 第二項 調查案之通知與被告之答辯 第三項 即決裁決 第四項 證據調查 一 證據調查程序之一般規定 二 法定程序之進行規定 三 強制開示與保護令之聲請 第五項 聽證會 第六項 初步裁決之審核 一 初步裁決之發布 二 初步裁決之審核 第七項 最後裁定之政策性審核與執行 第八項 最終裁定之上訴 第六節 三三七案件之特色 第一項 調查及最終決定過程快速 第二項 立即且強大之救濟效力 第三項 救濟之限制 第四項 三三七案件之當事人通常亦同為民事程序之當事人 第五項 所需支出之訴訟費用 第七節 ITC重要案例與調查現況 第一項 例年來與台灣廠商有關之重要調查案件 第二項 進行中與台灣廠商有關之調查案件 第八節 小結：USITC調查程序之因應策略 第一項 以USITC之貿易制裁作為競爭策略 第二項 侵權調查之因應策略 一 訴訟代理人之選擇 二 應訴策略 三 和解考量 四 聲請民事程序之中止 第九章 結論與建議 第一節 結論 第一項 控制IC之市場現況 第二項 控制IC產業所面臨之之專利挑戰 第二節 專利因應策略之建議 第一項 事前預防策略 一 技術來源之考量 二 特定技術之保護方式 三 技術內容之公開 四 專利申請策略 五 專利法律狀態之維護與管理 第二項 事後防禦策略 一 侵權抗辯事由與選擇 二 抗辯事由之與應注意事項 三 民事訴訟應對策略 四 USITC調查程序之因應策略 第三項 結語 附錄一 DDWG授權合約 附錄二 SILICON IMAGE 5,905,769號美國專利首頁 附錄三 SILICON IMAGE 5,974,464號美國專利首頁 附錄四 GENESIS之5,739,867號美國專利首頁 附錄五 GENESIS之5,953,074號美國專利首頁 附錄六 GENESIS之6,078,361號美國專利首頁 附錄七 USPTO資料查詢介面 附錄八 PCT 資料檢索介面 附錄九 USITC調查資料檢索介 | zh_TW |
| dc.language.iso | en_US | - |
| dc.source.uri (資料來源) | http://thesis.lib.nccu.edu.tw/record/#G0090651048 | en_US |
| dc.subject (關鍵詞) | TFT LCD 產業發展現況 | zh_TW |
| dc.subject (關鍵詞) | LCD 控制IC產業環境分析 | zh_TW |
| dc.subject (關鍵詞) | 控制IC專利爭訟 | zh_TW |
| dc.subject (關鍵詞) | 專利部署 | zh_TW |
| dc.subject (關鍵詞) | 技術保護與專利申請策略 | zh_TW |
| dc.subject (關鍵詞) | 美國專利申請流程 | zh_TW |
| dc.subject (關鍵詞) | 專利之維護與管理策略 | zh_TW |
| dc.subject (關鍵詞) | 民事訴訟程序之因應策略 | zh_TW |
| dc.title (題名) | 論TFT LCD 產業之專利挑戰與因應-以LCD Monitor Controllers 之專利爭訟為例 | zh_TW |
| dc.type (資料類型) | thesis | en |
| dc.relation.reference (參考文獻) | 一 中文資料部份 | zh_TW |
| dc.relation.reference (參考文獻) | (一) 中文書籍 | zh_TW |
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